在廢水處理工程中使用紫外線殺滅水生傳染病菌的優(yōu)點已經得到廣泛確認。滅菌消毒是紫外線技能在水和廢水領域中的主要使用。還將此技能使用在其他許多方面，其中包含消除臭氧、下降總有機碳(TOC)、液體糖消毒、降解氯氣、外表和空氣以及冷卻塔消毒等。

滅菌

紫外線滅菌主要是使用254納米波長的紫外線光。此波長的紫外線光，即使是在微量的紫外線投射劑量下，也能夠損壞一個細胞的生命中心——DNA，因而阻止細胞再生,喪失再生才干使細菌變得無害，從而到達滅菌的效果。象一切其它紫外線使用技能一樣，這種體系的規(guī)模取決于紫外線的強度(照射器的強度和功率)和觸摸時刻(水、液體、或空氣暴露在紫外線下的時刻長短)。

液體糖消毒

大多數食品和飲料廠家都大量地使用液體糖。因為糖是很簡單被細菌所使用的食物，因而很簡單促成細菌繁衍。另外，液體糖是不透明的，所以很難進行徹底消毒。254納米波長的紫外線能夠用來對液體糖產品進行消毒。為了補償液體的黏稠度和顏色形成的能量損耗，許多紫外線發(fā)射器需求被緊緊地擺放起來組成所謂的 “薄膜” 反響器。這種放射器的嚴密組合能夠供給所要求的十分高的紫外線放射量，從而能夠對液體糖進行有效的消毒。它的紫外線的能量輸出大約是傳統(tǒng)消毒體系的7到 10倍。

消除臭氧

在廢水處理工程工業(yè)出產中，臭氧常被用于消毒和凈化水體。可是，因為臭氧有極強的氧化才干，水中剩下的臭氧假如不被去除會有可能對下一流程有所影響，因而，一般臭氧處理過的水在進入主要的工藝流程之前必須將水中剩下臭氧去除去。254納米波長的紫外線對于損壞剩下臭氧十分有效，它能夠把臭氧分化成氧氣。雖然不同的體系所需求的規(guī)模不同，但一般來講，一個典型的臭氧消除體系所需的紫外線放射量是一個傳統(tǒng)的滅菌消毒體系的三倍左右。

下降總有機碳量

在許多高技能和實驗室設備中，有機物會阻礙高純度水的出產。有許多方法能夠把有機物從水中清除去，較常用的方法包含使用活性炭和反滲透。波長較短的紫外線 (185納米)也能夠有效地下降總有機碳量(值的一提的是這些放射器也發(fā)生254納米波長的紫外線，因而能夠一起進行消毒)。波長較短的紫外線具有更多的能量，因而能夠分化有機物。紫外線氧化有機的反響進程雖然十分復雜，其主要原理是通過發(fā)生氧化才干很強的自由氫氧，將有機物氧化成水和二氧化碳。和臭氧清除體系一樣，這種降解有機碳的紫外線體系的紫外線放射量是傳統(tǒng)消毒體系的三到四倍。

降解余氯

在市政水處理和供水體系，加氯消毒是十分必要的。但在廢水處理工程工業(yè)出產進程中，為了避免對產品發(fā)生不良影響，去除水中的余氯卻經常是必要的前處理。消除余氯的根本方法有活性炭床和化學處理。活性碳處理的缺點在于它需求不斷再生，并且經常遇到細菌滋生的問題。185納米和254納米波長的紫外線都被證實能夠有效地損壞余氯和氯氨的化學鍵。雖然需求巨大的紫外線能量才干發(fā)揮效果，但它的優(yōu)點在于此方法不需向水中添加任何藥物，不需求貯存化學物質，簡單修理，并且一起還有滅菌和去除有機物的效果。

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